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InP(磷化銦)晶體基片

發(fā)布時(shí)間:2024-03-30  瀏覽次數:264


InP非常適用于高頻器件,如高電子遷移率晶體管和異質(zhì)結雙極晶體管(HBT)等方面。InP基器件在筆米波、通訊、防撞系統、圖像傳感器等領(lǐng)域有廣泛應用

產(chǎn)品名稱(chēng)

磷化銦(InP)晶體基片

技術(shù)參數

晶體結構:立方晶系

晶格常數:a=5.4505  ?

摻雜:None;Sn;S;Fe:Zn

密度:4.81g/cm3

硬度:3 Hohs

導電類(lèi)型:N;N;N;Si;P

折射率:3.45

載流子濃度:1-2x1016  1-4x1018  1-3x1018  .64x1018

位錯密度:<5x104 cm-2

生長(cháng)方法:LEC

熔點(diǎn):1062

彈性模量:7.1E1ldym  cm-2

產(chǎn)品規格

常規晶向: 

常規尺寸:2~x0. 5mm  10x10x0.5mm

拋光情況:單拋

表面粗糙度:15A

:只寸及方向可按照客戶(hù)要求定做

晶體缺陷

人工金屬單晶存在常見(jiàn)晶體缺陷,表面可能會(huì )有小黑點(diǎn),微小氣泡等

標準包裝

1000級超凈室,100級超凈袋或單片盒封裝

晶體材料咨詢(xún)電話(huà):199-5653-2471王經(jīng)理

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