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InSb(銻化銦)晶體

發(fā)布時(shí)間:2024-04-08  瀏覽次數:223


InSb晶體在III-V族半導體中,InSb化合物具有最窄禁帶寬度、最高電子遷移率、最小有效質(zhì)量和g 因子,是制備高速低功耗電子器件、紅外光電子器件及進(jìn)行自旋電子學(xué)研究與拓撲量子計算等前沿物理探索的理想材料。

產(chǎn)品名稱(chēng)

銻化銦(InSb)晶體基片

技術(shù)參數

晶體結構:立方晶

晶格常數:6.06 ?

硬度(Mohs):3.8

密度:5.66g/cm3

熔點(diǎn):942

摻雜:None;Te;Ge

導電類(lèi)型:N型 和 P

載流子濃度:1-5x1014   1-2x1015 

 位錯密度:<2x102 cm-2

生長(cháng)方法:FZ LCE

產(chǎn)品規格

常規晶向:(100

公差:±0.5o

常規尺寸:dia2"x0.5mm、10x10x0.5mm、10x5x0.5mm

拋光情況:?jiǎn)螔?span>  雙拋

表面粗糙度:<15?

注:尺寸及方向可按照客戶(hù)要求定做。

晶體缺陷

人工金屬單晶存在常見(jiàn)晶體缺陷等。

標準包裝

1000級超凈室,100級超凈袋或單片盒封裝。

晶體材料咨詢(xún)電話(huà):199-5653-2471王經(jīng)理

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