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GaN(氮化鎵)晶體

發(fā)布時(shí)間:2024-03-23  瀏覽次數:248

GaN晶體氮化鎵是氮和鎵的化合物,是一種直接能隙的半導體,由于具有化學(xué)穩定性好、熱傳導性能優(yōu)良、擊穿電壓高、大功率,近年在光電子領(lǐng)域和高溫高頻電子應用備受關(guān)注,是目前最優(yōu)秀的半導體材料。

產(chǎn)品名稱(chēng):

GaTe 單晶基片

技術(shù)參數:

電阻率:N/A

產(chǎn)品規格;

晶向:(0001)

尺寸:10x10x1.0mm

拋光情況:拋光,自然解理面

:可按客戶(hù)要求定制方向和尺寸

標準包裝

標準包裝:1000 級超凈室,100級超凈袋

產(chǎn)品名稱(chēng)

氮化鎵(GaN)晶體基片

技術(shù)參數

晶體結構:六方晶系

晶格常數a= 3.186 ? ,  c = 5.186 ? 

 傳導類(lèi)型:N型摻Si;N型不摻雜

可用表面積:>90%

位錯密度:(5-9x105Ω.cm

電阻率:R<0.05 Ω.cm;R<0.1Ω.cm

介電常數:8.9

TTV:≤15um

密度:6.15g/cm3

生長(cháng)方法:HVPE(氫化物氣相外延法)

產(chǎn)品規格

常規晶向:  (0001)

常規尺寸:10.5x10x0.35mm、5x5x0.35mm

表面粗糙度:<5?

注:尺寸可按照客戶(hù)要求定做。

晶體缺陷

人工生長(cháng)單晶有可能存在晶體內部缺陷。

標準包裝

1000級超凈室100級超凈袋或單片盒裝

晶體材料咨詢(xún)電話(huà):199-5653-2471王經(jīng)理


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