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GaSb單晶是的晶格常數與帶隙在0.8~4.3um光譜范圍內的各種三元、四元和III-V族化合物固熔體的晶格常數匹配,所以 GaSb可以作為襯底材料適合用作制備某些紅外光纖傳輸的激光器和探測器,GaSb的晶格限制遷移率大于GaAs,使得它在制作微波器件方面具有潛在的應用前景。
產(chǎn)品名稱(chēng)
銻化鎵(GaSb)晶體基片
技術(shù)參數
晶體結構:立方晶系
晶格常數:6.095?
硬度(Mohs)4.5
密度:5.619 g/cm3
熔點(diǎn):710℃
介電常數:15.7
熱膨脹系數:6.1×10-6/oK
熱導率:270 mW / cm.k at 300K
摻雜類(lèi)型:N型摻Te;P型不摻雜
載流子濃度:1~2x1017 1~5x1016 1~5x1018 2~6x1017 1~5x1016
位錯密度:<103 cm-2
生長(cháng)方法:LEC
產(chǎn)品規格
常規晶向: (100)、(110)、(111)
常規尺寸:dia2"x0.5mm、10x10x0.5mm、10x5x0.5mm
拋光情況:?jiǎn)螔?span>
表面粗糙度:<15A
注:尺寸及方向可按照客戶(hù)要求定做。
晶體缺陷
人工生長(cháng)單晶有可能存在晶體內部缺陷。
標準包裝
1000級超凈室,100級超凈袋或單片盒封裝
晶體材料咨詢(xún)電話(huà):199-5653-2471王經(jīng)理